PVDの真空メッキ機械を放出させるチタニウムの窒化物のマグネトロン頂上

1. マグネトロンの放出させる主義は陰極のグロー放電、それの理論に費やします基づいています

仕事の部分の表面の近くの陰極の表面の磁界。それからそれは放出させた原子を改良します

イオン化率。それはまたマグネトロンの放出させる均等性を、できます表面の輝いた効果を改善保ちます。


2. アーク血しょう蒸発の源は陰極を最大限に活用することの40A流れの下で信頼できます、それ働くことができます

そして磁界の構造。それは原子拡散コーティングと材料間の起こります。それ

lonのビームが沈殿を助けたことまた利点を持っています。


3. ポンプ施設管理、電気制御システムに掃除機をかければ完全な真空メッキ システムはある場合もあります

ユーザーの要求に従ってカスタマイズされる。

4. それは装置の低温学イオン二次文献、材料、それを熱しないで基質できます

直接室温で冷たいめっきのフィルムを、節約しますエネルギーを、高めます生産性をして下さい。


5. 用具のコーティングの部屋のための温度の最高は用具に加えて600度、できます

コーターのコーティングの塗布は加熱装置を、他の適用必要としません装置を要求します。
 

真空メッキ機械、の下のいわゆる「しぶき」のマグネトロンの放出させる働き原則、

電界の電子の行為はアルゴンとの衝突の過程において基質に加速します

原子、イオン化多量のアルゴン イオンおよび電子。電子は基質の方に飛びます、

アルゴン イオンは大きいの放出させる電界の行為の下で目標資料のスピードをあげます

ターゲット原子の数、および中立ターゲット原子（または分子基質で）形作るために沈殿します

フィルム。lorentzの過程において磁界によって基質に飛ぶ加速の二次電子

磁力、ターゲット表面血しょうの近くの限られた区域、の血しょう密度の影響

区域はターゲット表面のまわりに磁界の行為の下に非常に高い、二次電子ありますです

円動きは、電子動き道影響の動きの過程において非常に長いです、絶えず

イオン化の衝突の何回も後のターゲットの多量のアルゴン イオン衝突、

電子エネルギーは次第に、投げられてターゲットからの磁界ラインのヨーク、減ります

材料、基質の最終的な沈殿。