テーブルウェアのためのスプーン//フォークのマグネトロンの放出させる真空メッキ機械頂上ナイフで刺して下さい

真空メッキ機械、の下のいわゆる「しぶき」のマグネトロンの放出させる働き原則、

電界の電子の行為はアルゴンとの衝突の過程において基質に加速します

原子、イオン化多量のアルゴン イオンおよび電子。電子は基質の方に飛びます、

アルゴン イオンは大きいの放出させる電界の行為の下で目標資料のスピードをあげます

ターゲット原子の数、および中立ターゲット原子（または分子基質で）形作るために沈殿します

フィルム。lorentzの過程において磁界によって基質に飛ぶ加速の二次電子

磁力、ターゲット表面血しょうの近くの限られた区域、の血しょう密度の影響

区域はターゲット表面のまわりに磁界の行為の下に非常に高い、二次電子ありますです

円動きは、電子動き道影響の動きの過程において非常に長いです、絶えず

イオン化の衝突の何回も後のターゲットの多量のアルゴン イオン衝突、

電子エネルギーは次第に、投げられてターゲットからの磁界ラインのヨーク、減ります

材料、基質の最終的な沈殿。

1. 急速な溶着速度および小さい温度の上昇は火およびターゲットの現象を禁じることができます

毒。

2. 放出させることによって出る高エネルギーはかなり膜の密度および付着を高めました。

3. タッチ画面+PLCはフル オートマチック制御、自動/手動切換えを達成できます;

4. 大量、大きい積載量および高い生産の効率。

5. 工作物フレームは自動肯定的の置くことができる公共の回転構造を採用します、

後方の回転およびプロダクトはよいです;

6. 適度な構成、速いポンプ率、低雑音、低負荷の消費;

7. この装置によって沈殿するフィルムの層は密度の点では顧客の要求を満たすことができます

均等性、純度および硬度